核心目的

實現(xiàn)電路導通：在基板（如 FR-4 環(huán)氧樹脂板）表面沉積銅、錫等金屬，形成導電線路；對多層板的 “過孔” 進行電鍍（孔金屬化），打通層間電路。

提升可靠性：通過電鍍鎳、金等耐腐蝕金屬，保護銅層不被氧化，延長 PCB 使用壽命；電鍍錫可作為焊接保護層，確保元器件焊接牢固。

增強機械性能：部分場景下電鍍厚銅（如功率 PCB），提升電流承載能力；電鍍鎳層可增強表面硬度，避免線路磨損。

圖形電鍍：定義 “導電線路”

通過光刻 + 電鍍的方式，僅在需要導電的區(qū)域沉積金屬，步驟如下：

涂覆光刻膠：在基板表面均勻涂覆感光樹脂（光刻膠），烘干后形成保護膜。

曝光與顯影：用帶有線路圖形的菲林覆蓋基板，通過紫外線曝光使曝光區(qū)域的光刻膠固化；再用顯影液沖洗，去除未固化的光刻膠，露出需要電鍍的銅表面（線路區(qū)域）。

圖形電鍍：僅在露出的線路區(qū)域電鍍銅（增厚至目標厚度），若需焊接保護，可繼續(xù)電鍍錫（厚度 5-10μm）或鎳金。

褪膜與蝕刻：去除剩余的光刻膠，再用酸性蝕刻液（如氯化鐵溶液）腐蝕未被電鍍金屬保護的銅層，終留下所需的導電線路。

電鍍質(zhì)量直接取決于參數(shù)控制，核心參數(shù)如下：

鍍液溫度：如電解鍍銅的鍍液溫度需控制在 20-25℃，溫度過高會導致銅層結晶粗糙，溫度過低則沉積速度變慢。

電流密度：電流密度過大易導致金屬層燒焦、脫落；過小則沉積效率低。例如化學鍍銅無需電流，電解鍍銅的電流密度通常 1-2A/dm2。

鍍液 pH 值：如化學鍍銅的鍍液 pH 需控制在 12-13（堿性環(huán)境），pH 過低會導致還原劑失效，無法沉銅。

鍍液純度：需定期過濾鍍液（用 5-10μm 濾芯），去除雜質(zhì)顆粒，避免雜質(zhì)導致金屬層出現(xiàn)針孔、麻點。

高速電鍍（High-Speed Plating）

核心原理：通過提高電流密度（通常是直流電鍍的 2~5 倍）+ 強化電鍍液循環(huán)（如噴射、攪拌），加快金屬離子遷移速率，實現(xiàn) “短時間內(nèi)沉積厚鍍層” 的目標。

工藝特點：

沉積速率快（如銅鍍層沉積速率可達 20~50μm/h，是常規(guī)直流電鍍的 3~4 倍）；

需配套高濃度電鍍液（保證離子供應）、散熱系統(tǒng)（避免電流過大導致局部過熱）；

鍍層易出現(xiàn) “邊緣效應”（工件邊緣鍍層偏厚），需通過工裝優(yōu)化。

PCB 應用場景：

PCB “通孔電鍍”（THP）的厚銅需求（如電源板、服務器 PCB，通孔銅厚需≥25μm）；

批量生產(chǎn)中的鍍層沉積（縮短單塊 PCB 的電鍍時間，提升產(chǎn)能）。