載板電鍍的工藝流程包括:清潔、脫脂、進(jìn)料、化學(xué)處理、水洗、電解沉積、除膠、終檢等環(huán)節(jié)。其中,化學(xué)處理是整個(gè)工藝流程中重要的環(huán)節(jié),其影響電鍍效果的因素包括電壓、電流、電解質(zhì)濃度、流速等。
載板電鍍是一種高精度、性、高復(fù)雜度的電鍍加工工藝,可以廣泛應(yīng)用于電子、通訊、光電、汽車等行業(yè)。掌握載板電鍍的基本原理、工藝流程、適用范圍和注意事項(xiàng),可以有效提高金屬結(jié)構(gòu)的質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
載板電鍍核心工藝類型
在了解檢測標(biāo)準(zhǔn)前,需先明確載板電鍍的關(guān)鍵場景,不同工藝的檢測重點(diǎn)略有差異:
種子層電鍍:通常為薄層高純度銅(1-3μm),用于后續(xù)圖形電鍍的導(dǎo)電基底,要求低電阻、無針孔;
圖形電鍍:核心工藝,在線路 / 焊盤區(qū)域電鍍厚銅(5-20μm,甚至更高),實(shí)現(xiàn)電流傳輸與芯片鍵合支撐;
凸點(diǎn)(Bump)電鍍:如銅凸點(diǎn)、錫凸點(diǎn),用于芯片與載板的倒裝焊互連,要求的高度 / 直徑控制;
表面處理電鍍:如鎳(Ni)、鈀(Pd)、金(Au)鍍層(ENEPIG/ENIG 工藝),提升焊盤抗氧化性與鍵合可靠性。
載板電鍍的質(zhì)量檢測需圍繞 “高精度、高可靠性、高純度” 展開,通過多維度檢測(幾何、附著、微觀、電氣、環(huán)境)確保滿足先進(jìn)封裝的嚴(yán)苛需求,同時(shí)需結(jié)合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與下游定制要求動(dòng)態(tài)調(diào)整檢測方案。